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ISO 14606:2022
Surface chemical analysis — Sputter depth profiling — Optimization using layered systems as reference materials
| Fecha edición: |
2022-11-21
En Vigor
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| Idiomas disponibles: | Inglés |
| Resumen: | This document gives guidance and requirements on the optimization of sputter-depth profiling parameters using appropriate single-layered and multilayered reference materials, in order to achieve optimum depth resolution as a function of instrument settings in Auger electron spectroscopy, X-ray photoelectron spectroscopy and secondary ion mass spectrometry. This document is not intended to cover the use of special multilayered systems such as delta doped layers. |
| ICS: | 71.040.40 - Análisis químico |
| CTN: | ISO/TC 201/SC 4 - 54646 |
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Anulaciones Normas |
Anula a ISO 14606:2015 |










