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Normas IEC internacionales electrotécnicas - AENOR
IEC 62374-1:2010

IEC 62374-1:2010

Semiconductor devices - Part 1: Time-dependent dielectric breakdown (TDDB) test for inter-metal layers

Dispositifs à semiconducteurs - Partie 1: Essai de rupture diélectrique en fonction du temps (TDDB) pour les couches intermétalliques

Fecha:
2010-09-29 /Vigente
Resumen (inglés):
IEC 62374-1:2010 describes a test method, test structure and lifetime estimation method of the time-dependent dielectric breakdown (TDDB) test for inter-metal layers applied in semiconductor devices.
Resumen (francés):
La CEI 62374-1:2010 décrit une méthode d'essai, une structure d'essai et une méthode d'estimation de la durée de vie d'un essai de rupture diélectrique en fonction du temps (TDDB) pour des couches intermétalliques appliquées dans des dispositifs à semiconducteurs.
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