Resumen:
This standard specifies a method for axial tensile-tensile force fatigue testing of thin film materials with a length and width under 1mm and a thickness in the range between 0,1 µm and 10 µm under constant load amplitude or constant displacement amplitude. Thin films are used as main structural materials for MEMS and micromachines.
In dieser Norm ist ein Prüfverfahren zur uniaxialen Dauerschwingfestigkeit mit Zug-Zug-Beanspruchung bei konstanter Spannungs- oder Dehnungsamplitude festgelegt für Dünnschicht-Werkstoffe mit einer Länge und Breite kleiner als 1 mm und einer Dicke im Bereich von 0,1 µm bis 10 µm. Dünnschicht-Werkstoffe werden als hauptsächliche Werkstoffe für die Herstellung von Bauteilen der Mikrosystemtechnik und Mikromaschinen verwendet.
Keywords:
Base materials, Definitions, Dimensions, Electrical engineering, Fatigue, Fatigue limit, Materials, Microelectronics, Microsystem techniques, Room air temperature, Samples, Semiconductor devices, Specification (approval), System engineering, Tensile strain, Tensile testing, Testing, Testing devices, Testing system, Thin films, Thin-film devices, Thin-film technology