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Normas DIN – AENOR
DIN EN 62047-3:2007-02

DIN EN 62047-3:2007-02

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 3: Thin film standard test piece for tensile-testing (IEC 62047-3:2006); German version EN 62047-3:2006

Dispositifs à semiconducteurs - Dispositifs microélectromécaniques - Partie 3: Eprouvette d'essai normalisée en couche mince pour l'essai de traction (CEI 62047-3:2006); Version allemande EN 62047-3:2006

Halbleiterbauelemente - Bauteile der Mikrosystemtechnik - Teil 3: Dünnschicht-Standardmikroprobe für die Prüfung der Zugbeanspruchung (IEC 62047-3:2006); Deutsche Fassung EN 62047-3:2006

Fecha:
2007-02 /Active
Idiomas Disponibles:
Alemán
Equivalencias internacionales:

EN 62047-3 (2006-09)

IEC 62047-3 (2006-08)

Relación con otras normas DIN:
Resumen:
This Standard specifies a standard test piece which is used to guarantee the propriety and accuracy of a tensile testing system for thin film materials with length and width under 1 mm and thickness under 10 µm, which are main structural materials for micro-electromechanical systems (MEMS), micromachines and similar devices.
In dieser Norm ist eine Standardmikroprobe festgelegt, die verwendet wird, um die Richtigkeit und Genauigkeit eines Prüfsystems zur Zugbeanspruchung von Dünnschicht-Werkstoffen mit Längen- und Breiten kleiner als 1 mm und Dicken kleiner als 10 µm sicherzustellen, welche die hauptsächlichen Basiswerkstoffe in der Mikrosystemtechnologie, von Mikrobauteilen und ähnlichen Bauteilen sind.
Keywords:
Components, Materials, Microelectronics, Microsystem techniques, Precision, Properties, Samples, Semiconductor devices, Specification (approval), Standard methods, Symbols, System engineering, Tensile strain, Tensile testing, Testing, Testing devices, Testing system, Thin films, Thin-film devices, Thin-film technology
48,88
Idioma Formato

Formato digital

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